经济观察网讯 据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网8月2日消息，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。（实习记者 赵嘉馨 编辑 李仕静）