11月10日，青岛思锐智能科技股份有限公司科创板IPO获受理。招股书显示，思锐智能本次拟公开发行新股不低于23,876.2572万股且不超过45,099.5969万股，占发行后总股本比例不低于15%且不超过25%，本次发行不涉及股东公开发售股份，保荐机构为国泰海通证券。

作为聚焦半导体前道核心装备的高科技企业，思锐智能长期专注于原子层沉积设备（ALD）和离子注入设备（IMP）的研发、生产和销售。招股书显示，思锐智能是国内极少数在原子层沉积设备领域实现全球化布局并具有全球知名度的设备制造商，也是国内极少数实现离子注入设备研发制造及产业化应用的设备制造商。围绕这一能力定位，ALD的全球化高增长、IMP的自主创新突破、持续高强度研发投入以及19.22亿元在手订单，构成思锐智能此次IPO的核心关注。

主营收入加速聚焦，硬核研发筑牢科创底色

思锐智能形成了较为清晰的收入增长、研发投入和产业化验证链条。招股书显示，2023年至2025年，公司营业收入分别为34,857.28万元、36,253.07万元和49,542.44万元，呈持续增长趋势。同期，公司主营业务收入分别为25,179.15万元、34,427.05万元和49,192.10万元，年均复合增长率达39.77%；主营业务收入占营业收入的比例由72.23%提升至99.29%，业务聚焦度持续提升。2026年上半年，公司实现营业收入18,973.97万元，其中主营业务收入18,685.69万元，占营业收入的98.48%，核心设备及相关服务继续构成公司经营主体。随着薄膜电致发光显示等其他业务逐步收缩，公司业务结构进一步向原子层沉积设备和离子注入设备两大半导体前道核心装备集中。

在收入增长背后，是持续高强度研发投入形成的技术支撑。2023年至2025年，思锐智能累计研发投入金额为57,087.59万元，占同期累计营业收入的比例为47.32%；2026年上半年，公司研发投入11,584.15万元，占同期营业收入的61.05%，持续围绕核心设备研发与产品迭代投入资源。截至2026年6月30日，公司研发人员232人，占员工总数的比例为29.37%。从专利成果看，截至2026年6月30日，公司已获授权专利392项，包含111项境内专利和281项境外专利，其中发明专利355项；应用于公司主营业务并能够产业化的发明专利314项。

围绕前道核心装备研发，思锐智能技术能力获得多层级认可。招股书显示，思锐智能主要产品持续迭代，致力于满足国内外先进工艺客户的设备需求，并承担国家级重大专项课题。公司取得国家专精特新重点“小巨人”、高新技术企业、山东省制造业单项冠军企业、山东省新型研发机构、山东省首台（套）技术装备生产企业及产品认定、青岛市新一代信息技术产业链主企业等多项荣誉，技术实力获得主管部门及业内认可。

ALD撑起全球化基本盘，IMP进入自主创新攻坚环节

在半导体前道制造中，ALD和IMP分别对应“成膜”和“掺杂”两大关键工艺。ALD主要承担高精度薄膜沉积任务，适用于三维结构、复杂表面及先进材料体系，是先进制程、功率器件、显示器件等领域提升薄膜均匀性和工艺稳定性的关键设备；IMP则通过精准控制离子注入能量、剂量和深度，调节半导体材料电学性能，是芯片制造掺杂工艺的核心设备。两类设备技术门槛高、客户验证周期长，也是半导体前道装备自主创新进程中需要持续攻克的重要方向。

在上述工艺中，ALD设备已构成思锐智能当前经营基本盘。公司原子层沉积设备包括Transform系列、TFS系列、P系列、空间ALD系列和Genesis系列等类型，产品应用覆盖集成电路、功率器件、科研及显示器件等领域。2023年至2025年，公司原子层沉积设备收入分别为21,404.48万元、29,183.85万元和43,447.93万元，两年复合增速约42.47%；同期，原子层沉积设备销售毛利分别为6,172.58万元、10,781.23万元和15,775.52万元，两年复合增速约59.87%。从2026年上半年的业务构成看，ALD设备实现收入11,122.53万元，占主营业务收入的59.52%，持续支撑公司经营体系。

ALD业务为公司积累了全球化客户资源、产品验证经验和跨区域服务能力。根据QY Research统计数据，2025年思锐智能原子层沉积设备在化合物半导体领域的市场占有率排名全球第三、国产厂商第一，在显示器件领域和科研领域的市场占有率均排名全球第一。公司以中国和芬兰两地作为研发制造中心，业务覆盖全球40多个国家和地区，累计服务超过500个客户，在全球细分市场形成了较强客户基础和品牌认知。

IMP则直指半导体前道设备自主创新的深水区。离子注入设备长期由国际巨头占据主导，市场需求增长与国产化率偏低之间的反差，使离子注入设备成为国产半导体装备攻关的重要方向。招股书显示，思锐智能离子注入设备首先聚焦技术难度较高的高能离子注入设备并取得突破，相关产品已应用于国内先进存储制造产线；大束流离子注入设备、中束流离子注入设备已交付国内知名客户，产品体系已覆盖高能、大束流、中束流等主流类型。同时，公司还在推进氢离子、SiC、超高能等复杂机型研发。2026年上半年，思锐智能2台高能离子注入设备通过客户验收，实现收入5,075.35万元，占同期主营业务收入的27.16%；截至2026年6月末，另有13台离子注入设备在多家客户产线进行验证。设备验收并形成实际收入，标志着公司IMP业务已取得商业化成果。

进一步看，思锐智能的发展路径并非简单的产品横向扩张，而是从ALD优势业务出发，向IMP等更高壁垒、更强自主创新需求的前道设备环节延伸。一方面，ALD业务提供全球化收入基础和客户服务体系；另一方面，IMP业务承担前道关键装备国产化突破任务，并开始形成实际收入贡献。两类设备共同构成思锐智能“ALD+IMP”双主业矩阵，成为其科创板IPO区别于一般设备企业的重要能力标签。

客户验证叠加在手订单，规模化交付成后续看点

半导体设备行业具有典型的客户验证壁垒。招股书显示，思锐智能产品已广泛应用于全球半导体、显示器件等领域头部企业，并服务于全球众多知名高校和科研机构。报告期内，公司主要客户均有设备、备品备件或技术服务业务的复购订单或持续合作意愿，合作具有持续性和稳定性。同时，公司采用直销模式，并组建客户服务团队长期驻扎客户现场，跟踪产品运行情况、响应客户需求，为设备迭代和客户黏性提供应用端支撑。

订单储备进一步提升了后续增长的可见度。截至2026年9月末，思锐智能原子层沉积设备和离子注入设备在手订单合计19.22亿元，其中原子层沉积设备在手订单7.28亿元，离子注入设备在手订单11.93亿元。在前道半导体设备验证周期较长、客户导入门槛较高的背景下，上述订单既体现ALD全球化业务基础的延续，也反映IMP设备商业化推进取得进展。对于仍处于高研发投入阶段的半导体装备企业而言，后续关键在于订单交付、产品验收、产能爬坡和规模效应释放。

本次IPO，思锐智能拟使用募集资金20亿元。其中，半导体先进装备研发制造中心项目拟使用募集资金10亿元，高端半导体装备研发项目拟使用募集资金6亿元，补充流动资金拟使用募集资金4亿元。上述项目均围绕公司主营业务展开，投向科技创新领域。其中，半导体先进装备研发制造中心项目将依托公司现有技术积累和产品基础，扩充原子层沉积设备和离子注入设备生产制造能力，提升研发、生产、质量控制及客户服务能力；高端半导体装备研发项目则有助于公司持续推进技术创新，进一步突破关键核心技术、丰富产品矩阵。

整体来看，思锐智能此次科创板IPO的核心看点，在于其围绕半导体前道核心装备形成的双平台布局：以ALD业务构建全球化收入基础和细分市场地位，以IMP业务切入自主创新较低的关键设备环节，并通过研发投入、客户验证、订单储备和募投项目形成持续推进产业化的能力闭环。随着本次IPO进入审核阶段，思锐智能依托ALD全球化业务基础、IMP商业化进展和在手订单储备，进一步提升规模化交付能力，将成为市场观察其硬科技成色的关键。

（本文仅供参考，不构成投资建议）